操作情況：

鍍層厚度/電鍍時間計算：

鍍層合金重量（毫克）=面積（平方厘米）X 0.82 X 鍍層厚度（微米）

電鍍時間（分）=鍍層合金重量（毫克）/ 24.17 / 電流（安培）

三、開缸方法（以配比100升鍍液計）

1、用2%清洗鍍槽和過濾泵2小時，徹底清洗槽，注入50升純水，加溫至50℃。

2、稱取CN化鈉6.5公斤，倒入槽中完全溶解。

3、稱取1.5公斤，慢慢加入上述溶液中，直至完全溶解。

4、稱取CN化亞銅（合金屬銅71%）1.7公斤，用水調成糊狀慢慢加入上述溶液中，一邊加一邊攪拌，直至絡合反應完全，溶液呈澄清狀。

4、稱取4.8公斤錫酸鉀，慢慢加入上述溶液中，邊加邊攪拌直至完全溶解。

5、稱取250克氧化鋅，一邊加一邊攪拌，直至絡合反應完全，溶液呈澄清狀。

6、依上次步驟待完全溶解后方可加入下一物料，然后進行處理至鍍液清澈或者開缸過濾泵以1-3μ碳芯濾清鍍液。

7、開缸劑7升，光劑200毫升、輔助劑 100毫升，并以純水加至100升工作水位，調節溫度至正常50℃，然后試鍍。

四、補充方法：每72安培小時或6000安培分鐘（合金重為100克）需補充

CN化亞銅             80克 

錫酸鈉              100克

氧化鋅               8克

CN化鈉）            130

        視分析補充

光亮劑         200ml-300ml

輔助劑         100ml-200ml

開缸劑       碳粉處理后補加5-10毫升；不耐高溫需適當補加5-10毫升。

以上補充每公升缸液電鍍0.5安培小時需補充一次。

五、設備要求：

1）PP.PE缸     2）Telfon熱筆     3）陽極炭板或316不銹鋼

4）整流：標準直流電源附安培分鐘計

六、組成原料的功能:

1、 CN化亞銅:提供鍍層中的銅,過高鍍層偏黃紅,過低鍍層偏灰白易蒙,失光，甚至在電流區漏鍍。

2、 CN化鋅:提供鍍層中的鋅,過高鍍層偏黃,偏藍,過低鍍層啞,整體泛黃不白。

3、 CN化鈉:絡合鍍液中的銅、鋅離子,過高將抑制銅離子的析出,出現鍍液缺銅的現象，含量過低鍍層中銅含量過高，鍍層局部發黃。

4、 無鉛白銅錫錫鹽:提供鍍層中的錫,過高鍍層整體泛黃甚至黑蒙,過低鍍層偏黃紅。

5、 :絡合鍍液中的錫、鋅離子,含量過高將抑制四價錫離子的析出,出現鍍液缺錫的現象，含量過低鍍層中錫含量過高，無光有霧，易有水跡。

6、 :不是必要成份,日常生產中CN化鈉分解積累而成,過多(60克/升)用冷凍法除去,因其影響電流效率。

7、 光亮劑:使整個鍍層光亮潔白,起一定的走位效果,避免有個別零件顏色不均勻情況，少則光亮下降,高區啞灰發黃，當鍍液不正常偏黃時，有明顯壓黃作用。

8、輔助劑:當鍍層起霧、啞光有黑點，加入調整，過量局部有網狀黑斑

9、開缸劑:僅用于開缸，平時碳粉過濾需補加。開缸劑有優良的細化鍍層結晶及增白作用，亦可抑制各金屬的電位差在正常范圍，可提高鍍液的導電性能。（需要耐高溫260度以上，請將開缸劑提高到100毫升）